Kniha momentálne nie je na sklade
EMC 2003
Autori
Parametre
Viac o knihe
Inhalt: In diesem Tagungsband werden u. a. Themen aus folgenden Bereichen behandelt: Advanced Mask Technology, Mask Defect and Inspection, Photomask Pattering, Mask Metrology and Measurements, Optical Proimity Correction and Resolution Enhancement techniques, Next generation Mask (NGM), Next Generation Lithography (NGL), Mask Error Enhancement Factor, MEEF, Concept of Manufacturing Procedures, EMC, OPC., u. a. Die GMM-Fachberichte können auch im Abonnement bezogen werden!
Nákup knihy
EMC 2003, Uwe Behringer
- Jazyk
- Rok vydania
- 2003
Akonáhle sa objaví, pošleme vám e-mail.
Doručenie
Platobné metódy
2021 2022 2023
Navrhnúť zmenu
- Titul
- EMC 2003
- Jazyk
- nemecky
- Autori
- Uwe Behringer
- Vydavateľ
- VDE-Verl.
- Rok vydania
- 2003
- Väzba
- mäkká
- ISBN10
- 380072748X
- ISBN13
- 9783800727483
- Séria
- GMM-Fachbericht
- Kategórie
- Skriptá a vysokoškolské učebnice
- Anotácia
- Inhalt: In diesem Tagungsband werden u. a. Themen aus folgenden Bereichen behandelt: Advanced Mask Technology, Mask Defect and Inspection, Photomask Pattering, Mask Metrology and Measurements, Optical Proimity Correction and Resolution Enhancement techniques, Next generation Mask (NGM), Next Generation Lithography (NGL), Mask Error Enhancement Factor, MEEF, Concept of Manufacturing Procedures, EMC, OPC., u. a. Die GMM-Fachberichte können auch im Abonnement bezogen werden!