Kniha momentálne nie je na sklade
Niedertemperatur-Deposition von Siliziumdioxid mittels Remote-PECVD
Autori
Parametre
Nákup knihy
Niedertemperatur-Deposition von Siliziumdioxid mittels Remote-PECVD, Josef Stein
- Jazyk
- Rok vydania
- 1999
Akonáhle sa objaví, pošleme vám e-mail.
Doručenie
Platobné metódy
2021 2022 2023
Navrhnúť zmenu
- Titul
- Niedertemperatur-Deposition von Siliziumdioxid mittels Remote-PECVD
- Jazyk
- nemecky
- Autori
- Josef Stein
- Vydavateľ
- Shaker
- Rok vydania
- 1999
- ISBN10
- 3826562186
- ISBN13
- 9783826562181
- Séria
- Berichte aus der Halbleitertechnik
- Kategórie
- Skriptá a vysokoškolské učebnice