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Die chemische Gasphasenabscheidung von Titannitrid durch Einwirkung von thermischer Strahlung auf monokristalline Siliciumsubstrate zur Herstellung von Diffusionsbarrieren in der Mikroelektronik
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Die chemische Gasphasenabscheidung von Titannitrid durch Einwirkung von thermischer Strahlung auf monokristalline Siliciumsubstrate zur Herstellung von Diffusionsbarrieren in der Mikroelektronik, Barbara Fröschle
- Jazyk
- Rok vydania
- 1997
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- Titul
- Die chemische Gasphasenabscheidung von Titannitrid durch Einwirkung von thermischer Strahlung auf monokristalline Siliciumsubstrate zur Herstellung von Diffusionsbarrieren in der Mikroelektronik
- Jazyk
- nemecky
- Autori
- Barbara Fröschle
- Vydavateľ
- Shaker
- Rok vydania
- 1997
- ISBN10
- 3826521870
- ISBN13
- 9783826521874
- Séria
- Berichte aus der Chemie
- Kategórie
- Fototechnika, kamerová technika, teória fotenia a kamery